结构特点
1、配置电子束蒸发及电阻蒸发系统;
2、配置超大坩埚电子枪,整个蒸发过程中膜料表面平整,蒸发分布均匀;
3、配置石英晶体膜厚控制仪可实现成膜速度和镀膜过程的自动控制;
4、配置大功率离子源,膜厚质量好;
5、总体结构设计合理,更符合工艺的要求,真空系统PLC自动控制,操作方便。